# スパッタ順序のみ
# 1. 基板作成
1. 以下のものを用意する
- 薬包紙2~3枚
- 大判ウェーハの入っている結晶ケース
- 破片ゴミ用結晶ケース
- ==基板==と書いてあるダイヤカット
- ピンセット

## 2-1. 基板に傷をつけて劈開する方法
1. 薬包紙の上に大判ウェーハを置く
2. ウェーハのオリフラ(オリエンテーションフラット)を確認する
3. オリフラ(または劈開面)と平行になるようにウェーハの縁をダイヤカットで傷つける
4. 薬包紙をもう一枚ウェーハの上に重ねる
5. ウェーハを触らないように割る
6. 同様の方法を用いて適当なサイズに劈開する
7. [基板洗浄](https://hackmd.io/dILEZruBT7iVr8TuwOyD6Q?both#%E5%9F%BA%E6%9D%BF%E6%B4%97%E6%B5%84)に移る

## 2-2. 基板に線を引いて劈開する方法
1. 以下のものを追加で用意する
- 1mm方眼マット **or** クリーンペーパーに印刷した1mm方眼用紙
- 小型ノギス

2. 方眼マットの上に薬包紙をひく
3. 薬包紙の上に大判ウェーハを乗せる
4. ウェーハのオリフラ(オリエンテーションフラット)を確認する
5. 方眼マットの線にウェーハのオリフラ(または劈開面)を沿わせる
6. 切りたいところから1.5mm~2mmずらして薬包紙を合わせる
7. 薬包紙の端に沿って定規を当てる
8. ウェーハの上下の薬包紙にダイヤカットをスライドし, 跡をつける
9. 跡が切りたい線に沿っているかを確認する
10. ウェーハの端から端までスライドする
11. 大判ウェーハが乗っている薬包紙の下にスライドグラスを傷に合わせるように置く
12. 大判ウェーハの上に薬包紙を乗せ、傷に合わせるようにスライドグラスで挟む
13. 浮いているウェーハをほかのスライドグラスで押し、割る
14. 切ったウェーハに小型ノギスを用い測定する
15. 同様の方法を用いて適当なサイズに劈開する

# 3. 基板洗浄
1. 以下のものを用意
1. 有機薬品庫よりEL級エタノール入り洗浄瓶
2. デシケータよりSUS:US洗浄用ケース
3. 下駄箱の上より水入りペットボトル

2. 洗浄する分だけのビーカーにエタノールを5ml入れる
3. エタノール入りビーカーに基板または, 新品のメタルマスクを**一つのビーカーにつき1枚**入れる
4. 洗浄用ケースを持ち, イエロールームに移動
5. 有機ドラフトチャンバーの`排気`と`照明`のスイッチを**ON**にする
6. ドラフトチャンバー内の超音波洗浄機を用意
7. 超音波洗浄機の排水栓が締まっていることを確認する
8. 超音波洗浄機の中にペットボトルの水をスノコより1cm高い位置まで入れる
9. 有機ドラフトチャンバーのコンセントにプラグを差し, 電源を入れる
10. SUS:US洗浄用ケースの中に超純水を入れる
11. 超純水装置の置いてある台の下部のペダルを**2回踏み**, 超純水を入れる
12. 洗浄用ケースの蓋を閉め、超音波洗浄機の中に入れる
13. 以下の条件でスタートを押す
- 3分
- 43[kHz]
- 常温

14. 終わり次第ケースをドラフトチャンバーの上に置く
15. 薬品庫からエタノール廃液ボトルを取り出す
16. ビーカーのエタノールを廃液ボトルに捨てる
17. ビーカーに超純水を3割入れる
18. 同条件で超音波洗浄をする

# 4. 基板乾燥
1. 手袋を二重にする
2. スピンドライヤの蓋を開ける
3. スピンドライヤのケースに基板、またはメタルマスクを入れる
4. スピンドライヤの電源を入れる
5. ケースを入れ、蓋をしめる
6. 回転し始めることを確認する
7. 回転が止まり次第, 基板またはメタルマスクを取り出し水滴が付着していないかを確認する
8. 水滴が付着している場合はもう一度スピンドライヤにかける
9. 基板やメタルマスクが十分に乾燥していることを確認し, 実験に使用する

# 5. スパッタ準備
1. チラーの電源を入れる
2. `RUN/STOP`押す
3. `PUMP`押す
4. 使用するガスの元栓をすべて開ける
5. `TGT WATER IN`開ける
6. `HOLDER WATER IN`開ける

# 6. スパッタ
1. 作業前圧力記入
2. LL開ける
3. トレイセットする
4. 蓋閉める
5. `LL`押す
6. `GV`押す
7. TRANSFER POSIの確認
8. トレイ運搬ハンドル右に回しきる
9. `PICK POS`2回押す
10. トレイ運搬ハンドル戻す
11. `GV`押す
12. `TR POS`押す
13. T-S距離確認
14. `TS POS`2回押す
15. SUBST ROTの`STEP`押す
16. 同上の`OFF`を押す
17. 回転数確認
18. カソードを合わせる
19. 記録表記入
20. 真空度が3.0×10^-4^になるまでまで待つ

# 7. 真空度が3.0×10^-4^になったら
1. ガス流量を設定する
2. 使うガスの栓をすべて開ける
3. 使用するターゲットを押す
4. 成膜時間を設定
5. RFボタン確認
6. GAS画面に移動
7. 使用するガスをすべて押す
8. ガス流量確認
9. RF電源つける
10. SET数値50W確認
11. `RF ON/OFF`つける
12. FWD確認
13. `FULL OPEN`押す
14. ガス流量30.00確認
15. 反射波28あたりまで下げる
16. オリフィス板閉める
17. プラズマ発生確認する
18. オリフィス板開ける
19. 反射波0
20. **==電力変更==はこのタイミングで行う**
21. 反射波0
22. `FULL OPEN`切る
23. 反射波0
24. 10分プレスパッタ
25. 記録表記入

# 8. プレスパッタ後
1. SP画面`TIMER`押す
2. 反射波0
3. 記録表記入

# 9. スパッタ後
1. RF電源切る
2. ターゲットOFF
3. MFCガス閉める
4. SUBST ROT`CONTI`押す
5. `TR POS`押す
6. `PICK POS`2回押す
7. `LL`押す
8. `GV`押す
9. ハンドル回しきる
10. `TR POS`押す
11. ハンドル戻す
12. `GV`押す
13. LL開ける
14. 手袋二重
15. トレイ出す
16. `LL`押す
17. 記録表記入

# 10. スパッタ終了後
1. `TGT WATER IN`閉める
2. `HOLDER WATER IN`閉める
3. チラーの`RUN STOP`切る
4. `PUMP`切る
5. チラーの電源切る
6. ガスの元栓すべて閉める
7. 送風機切る